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真空镀膜-镀膜设备自动化的说明[ 05-03 14:08 ]: 真空镀膜-镀膜设备自动化的说明 1.具有操作简便、性能稳定、抗干扰能力强的特点。操作系统具有灵活的可视化操作接口，并针对设备运行的具体情况，分为手动界面、维修界面、历史记录界面、自动界面。 2. 根据权限不同，限制相应的操作限制，最大限度的保证设备的正常运转和安全操作，以及工艺的稳定性和连续性。 3. 整个系统的操作、控制、显示集中在一起，便于实时的观察设备的运行，及时掌握设备的动态情况。 4. 镀膜过程的参数有

真空镀膜-五金工具真空镀膜的优点[ 04-28 14:53 ]: 真空镀膜-五金工具真空镀膜的优点五金工具真空镀膜能发生很硬的陶瓷涂层，这有利于进步耐磨性；涂层均匀共同，且孔隙度小，涂层结合强度高（大于70MPa)；涂层外表粗糙度小，可不需加工。薄膜类型色泽硬度（Hv）厚度(μm) 冲突系数（钢对磨）耐热温度（℃) TiN 金黄 2200±200 1～4 0.5～0.7 550±50

真空镀膜-基础的真空镀膜知识[ 04-26 14:30 ]: 真空镀膜-基础的真空镀膜知识　真空镀膜是由专用真空镀膜机完成的,其工作流程及原理为:基片通过镀膜机的机械手的搬运,进入到镀膜机的真空腔体里,经过高压电离的氩离子在强电场及强磁场的作用下,产生高速运动,轰击靶材表面,激发出的金属离子附着在基片表面,形成一层反射膜。基础的真空镀膜知识： 1.真空:用真空泵抽掉容器中的气体,使空间内低于一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。 2.真空中残存气体的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用压力表示单位（P

真空镀膜中关于靶材中毒的原因[ 04-24 13:59 ]: 第一：靶面金属化合物的形成。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导，所以，化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。第二：靶中毒的影响因素影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中毒

真空镀膜设备如何操作？[ 04-14 09:20 ]: 真空镀膜设备操作程序具体操作时请参照该设备说明书和真空镀膜机上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。 ① 检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。 ② 打开总电源开关，真空镀膜设备送电。 ③ 低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。 ④ 安装固

离子镀膜的均匀性要求[ 04-03 16:53 ]: pvd 真空镀膜，离子镀膜膜层的均与性主要包括成分均匀、组织结构均匀和膜厚均匀，最终保证膜层各种性能均匀。材料的性能由其诚分与组织结构所决定，膜层必须获得所设计的膜系成分和组织结构均匀一致。薄膜是二维材料，膜的厚度是重要的材料技术指标。比如薄膜的干涉显色，耐腐蚀性和耐磨性都与膜厚密切相关，膜厚均匀保证薄膜相关的性能均匀。离子镀膜膜层的成分来源于镀料，或者说来源于蒸发源和溅射靶的材料以及反应气体。这些沉积物的物种及其比例，在沉积过程要稳定供给。 &

真空镀膜安全操作规程[ 03-22 09:48 ]: 1．在机床运转正常情况下，开动机床时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。 2．在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。 3．在用电子枪镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃最好用铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃眼镜，以防X射线侵害人体。 4．镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除有害粉尘。 5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。 6．酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。 7

水镀膜的作用与优点有哪些？[ 03-14 14:25 ]: 水镀膜，汽车最简易的镀膜，遇水快速扩散成膜。所以称之为“水镀膜”。全车镀膜只需5分钟。防旧，防水，防污，防酸雨，防轻微划伤，车体防旧保护罩。作用提升车漆亮度：提升车漆亮度，在车漆表面形成一层晶莹剔透的保护膜。防污亮丽：高分子聚合物覆盖于漆面形成保护膜。每次洗车使用后都亮丽如新。优点抗氧化：水镀膜在车漆表面形成隔绝空气的保护膜，对漆面来说是安全物质，它自身永不氧化，不像车蜡那样自身氧化而殃及漆面。防紫外线：镀膜后，让车漆有效的防止紫外线照射，延缓漆面老

手机塑胶真空镀膜工艺[ 03-08 11:23 ]: 动生产线产品1,为NOKIA手机按键. 素材:PC透明料. 产品成型工艺流程: PC料--> 表面处理--> 喷涂UV底油漆UV--> IR流平--> UV曝光--> 真空镀膜--> 喷涂UV中涂UV--> IR流平--> UV曝光--> 镭雕图案--> 喷涂UV面漆UV--> IR流平--> UV曝光--> 完成. 自动生产线样品2.MOTO蓝牙耳机,黑色素材:PC料产品工艺流程基本同样品1,此处不一样的地方为,中涂UV#VMTC120D加入了色精进行染色.再者样品2为不导电电

真空镀膜的发展史[ 03-02 16:07 ]: 自50年代以来，光学薄膜主要在镀膜工艺和计算机辅助设计两个方面发展迅速。在镀膜方面，研究和应用了一系列离子基新技术。1953年，德国的Auwarter申请了用反应蒸发镀光学薄膜的专利，并提出用离子化的气体增加化学反应性的建议。1964年，Mattox在前人研究工作的基础上推出离子镀系统。那时的离子系统在10Pa压力和2KV的放电电压下工作，用于在金属上镀耐磨和装饰等用途的镀层，不适合镀光学薄膜。后来，研究采用了高频离子镀在玻璃等绝缘材料上淀积光学薄膜。70年代以来，研究和应用了离子辅助淀积、反应离子镀和

镀膜设备原理及工艺[ 01-30 19:23 ]: 2. 1　前处理（清洗工序）要获得结合牢固、致密、无针孔缺陷的膜层, 必须使膜层沉积在清洁、具有一定温度甚至是激活的基片上。为此前处理的过程包括机械清洗(打磨、毛刷水洗、去离子水冲洗、冷热风刀吹净)、烘烤、辉光等离子体轰击等。机械清洗的目的是去除基片表面的灰尘和可能残留的油渍等异物, 并且不含活性离子, 必要时还可采用超声清洗。烘烤的目的是彻底清除基片表面残余的水份, 并使基片加热到一定的温度, 很多材质在较高的基片温度下可以增强结合力和膜层的致密性。基片的烘烤可以在真空室外进行, 也可以在真空室内

镀膜技术问题及解答[ 01-25 17:37 ]: 电浆技术在表面技术上的应用有那些? 1)溅浆沉积：溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材，使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜，溅射离子的起始动能约在100eV。常用的电浆气体为氩气，质量适当而且没有化学反应。 (2)电浆辅助化沉积：气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行，如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。 (3)电浆聚合：聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中，然后涂布于基板上。电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电

PVD真空镀膜技术在注塑模具中的应用[ 01-23 11:29 ]: PVD（Physical Vapor Deposition）即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基底上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等特点。 PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的

做PVD真空镀膜的您必备这些知识[ 01-18 16:13 ]: PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、

镀膜过程中喷点、潮斑(花斑)的成因及消除方法[ 01-16 20:11 ]: 真空镀膜的过程中有时会产生喷点及潮斑(花斑)，这些喷点、潮斑(花斑)极大的影响了薄膜的品质，降低产品的合格率。本文将对喷点、潮斑(花斑)的形成原因以及消除方法作一探讨。一．喷点形成的原因镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因: 1. 镀膜材料纯度不高，含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。 2. 材料较为潮湿,预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。 3.

经过镀膜的镜头有什么好处呢[ 01-13 19:07 ]: 镜头都是由多片透镜组成的，透镜在受到光照在透射光线的时候实际上光线会受到损失，大约每一个透镜有两个空气接触面，每一个空气接触面大约会损失4%左右的光线，那就意味着镜头里面的镜片数越多，光线通过镜头以后损失的就越多，所以在早期镀膜技术没有出现之前，光学设计师很大的一个挑战就是要用尽量少的镜片来完成更好的成像质量，来校正更多的像差，实际上这个难度非常大，所以在五十年代到七十年代镜头的镀膜技术逐渐成熟完善普及应用之后，现在的镜头设计中就不受镜片片数的限制了，而更好的设计出较小像差的镜头。那

真空镀膜的知识[ 01-11 17:14 ]: 真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离

讲解镀膜系统主要构成[ 01-09 18:24 ]: 1.真空室　　涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，不锈钢材料制造、氩弧焊接、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。 2.真空获得部分在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。 3.真空测量部分　　真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了

真空镀膜设备这些知识，你都了解吗[ 01-06 17:43 ]: 真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离

镀膜技术十个主要问题及答案[ 01-04 20:29 ]: 一、镀膜技术可区分为那几类? 　　可区分为：(1)真空蒸镀 (2)电镀 (3)化学反应 (4)热处理 (5)物理或机械处理　　二、常用的真空泵浦有那几种?适用的抽气范围为何? 　　真空泵浦可分：　　(1)机械帮浦 (2)扩散泵浦 (3)涡轮泵浦 (4)吸附泵浦 (5)吸着泵浦　　真空泵浦抽气范围：　　泵浦

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