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[镀膜动态]真空镀膜的三种形式介绍[ 2021-01-20 10:04 ]
  真空镀膜的三种形式介绍,即蒸腾、溅射和离子镀.蒸腾镀膜是通过加热蒸腾某些物质使其堆积在固体表面而形成的,叫做蒸腾镀膜。法拉第在1857年首次提出了这一方法,现在它已经成为一种常用的涂膜技巧。     金属、化合物等蒸腾物质置于坩埚内或悬挂在热丝上作为蒸腾源,金属、陶瓷、塑料等衬底的待镀件放在坩埚前面。将所需系统抽到高真空后,加热坩埚,使材料在其中蒸发。蒸发物质的原子或分子以凝结的方式聚集在衬底表面。膜厚可以从几百埃到几微米不等。膜厚度决定于蒸腾源的蒸腾速率和时间(或决定于物料的
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[永城资讯]PVD真空镀膜原理介绍[ 2021-01-20 09:20 ]
  PVD即物理气相沉积,是目前国际上广泛采用的一种先进的表面处理方法。它的工作原理是在真空条件下,用气体放电将气体或被蒸发物质部分离化,将蒸发物或其反应物沉积到基体上,同时使气体离子或被蒸发物质离子轰击。其特点是沉积速度快,表面干净,尤其是膜层附着力强,缠绕力强,可镀材料范围广。利用世界上先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备,并以国际专家为基础进行工艺创新。公司拥有十多年的装饰镀层生产经验,为客户提供最合适的镀层加工方案。 一、PVD真空镀膜属性是怎样的?   1、金属色均匀、一致、耐用的表
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[永城资讯]镀膜技术的原理介绍[ 2021-01-11 11:51 ]
真空镀膜技术是一项新兴的技术,国际上直到60年代才开始将CVD(化学气相镀膜)技术应用到硬质合金工具中。因为这种方法需要在高温(工艺温度高于1000oC)下进行,且涂层类型单一,局限性很大,所以在开发初期还有待改进。
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[永城资讯]真空镀膜技术分类介绍[ 2021-01-11 11:36 ]
真空镀膜的专业性是应用物理分析化学方法,在固体表面涂上独特特征的表面涂层,使固体表面具有耐磨性、耐高温性、耐腐蚀性、耐氧化性、电磁波辐射性、导电性、吸磁性、电缆护套和设计装饰性等优于固体原料本身的优点,提高产品质量、提高产品使用期限、节约能源、获得显着专业性经济效益
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[永城资讯]离子镀膜中的离子源介绍[ 2021-01-11 11:08 ]
虽然离子源的类型有很多种,但目的无非是在线清洗,改善PVD真空镀膜表面的能量分布,调制增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体的结合强度,同时也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。如果是电镀工具的耐磨层,厚度一般较大,膜厚均匀性不高。可以使用离子电流较大、能级较高的离子源,如霍尔离子源或阳极层离子源。
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[镀膜动态]真空镀膜加工过程中清洁工作的重要性[ 2020-12-29 17:53 ]
  在真空镀膜的加工表面上清洗处理十分重要,它直接影响产品质量。加工零件进入镀膜车间前,必须对其进行认真的镀前清洁处理,表面污染来自工件在加工、输送、包装过程中粘附的各种尘埃、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物质,为避免加工过程中出现不良现象,真空镀膜加工厂家基本上可以采用去油或化学清洗的方法去除。   对于清洗处理的清洁表面,不能存放在大气环境中,应存放在密闭容器或清洁柜内,以减少灰尘污染。在刚氧化的铝容器中储存玻璃衬底,可以将烃类蒸汽的吸附降到最低程度。由于这些容器对烃类的吸附优先。对高度不稳定、对水汽敏感
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[永城资讯]真空镀膜开始前要注意哪些?[ 2020-12-01 16:44 ]
  真空镀膜表面的清洗非常重要,直接影响电镀产品的质量。在进入镀膜室之前,工件必须在电镀前仔细清洗。表面污染来源于加工、运输和包装过程中粘附在工件上的各种灰尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物质。为了避免加工过程中造成的缺陷,真空镀膜厂家基本上可以通过脱脂或化学清洗的方式去除。   清洁处理后的清洁表面不能储存在大气环境中,但应储存在封闭的容器或清洁柜中,以减少灰尘污染。通过将玻璃基板储存在新氧化的铝容器中,可以最大限度地减少碳氢化合物蒸汽的吸附。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对水蒸气敏感的高度不稳定表面的
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[镀膜动态]真空镀膜机适用范围及分类介绍[ 2020-11-25 11:20 ]
  很多人都听说过真空镀膜机的名字,但对真空镀膜机更深层次的知识并不清楚,甚至对其分类也略知一二。今天小编详细介绍一下真空镀膜机的分类和适用范围。   真空镀膜机主要是指一种需要在高真空度下进行的镀膜,包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机。主要分为蒸发和溅射。在真空镀膜设备中,需要镀膜的变成了基材,镀膜的材料变成了目标。衬底和靶在真空室中。蒸发镀膜一般是将靶材加热,使表面成分以原子团或离子的形式蒸发,沉积在基材表面,从而通过成膜过程形成薄膜。对于溅射镀膜,真空镀
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[常见问答]真空镀膜机选用要点[ 2020-11-23 15:28 ]
真空镀膜机选用要点
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[常见问答]真空镀膜-设备蒸发系统简介[ 2018-05-21 17:14 ]
 真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。   真空镀膜设备蒸发系统简介:     蒸发系统主要指成真空镀膜设备膜装置部分,镀膜机器的成膜装置很多,有电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种方式,鄙人就电阻加热和电子枪蒸发两种方式作介绍,因为此两种方式我应用的比较多。   电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用最多,最广泛的蒸发
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[常见问答]真空镀膜和光学镀膜区别有哪些[ 2018-05-19 15:48 ]
真空镀膜和光学镀膜区别有哪些
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[永城资讯]真空镀膜-真空镀膜机选用要点[ 2018-05-12 14:35 ]
   真空镀膜-真空镀膜机选用要点 1手动主动的挑选 依据设备运用特色,可挑选手动、半主动、全主动或其组合的操控方法。 2真空镀膜设备充气方法的挑选 充气方法可选用质量流量计、浮子流量计 + 针阀及相应的充气阀门,并可挑选多路充气管路及相应流量参数。 3镀制方法的挑选 依据工艺要求挑选镀制方法及方式,如电阻蒸腾(钨丝、钼舟、石墨舟)磁控源(同轴圆柱型磁控源、园柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等)以靶材材质及尺度多弧源(Ф60,Ф80直径靶材,气动、电动的引弧等),真空丈量可挑选数字式
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[永城资讯]真空镀膜-真空电镀的主要应用范围[ 2018-05-10 15:06 ]
 真空镀膜-真空电镀的主要应用范围 真空电镀我们应该都有必定的了解,它主要包含真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型,它们都是采用在真空条件下,经过蒸馏或溅射等方法在塑件外表堆积各种金属和非金属薄膜,经过这样的方法能够得到十分薄的外表镀层,一起具有速度快附着力好的杰出长处。 正是因为这些长处,所以真空电镀设备的使用十分广泛,如在ABS料、ABS+PC料、PC料,家用电器、化妆品包装等产品上都有着不错的使用。一起因其工艺流程杂乱、环境、设备要求高,单价比水电镀贵重.现对其工艺流程作扼要介绍:产品外表清洁--〉
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[永城资讯]真空镀膜-真空电镀主要部件有哪些功能[ 2018-05-08 13:58 ]
 真空镀膜-真空电镀主要部件有哪些功能 真空电镀首要部件有哪些功用?现在真空电镀设备是做的越来越好,从一开始功用较单一的真空电镀到现在的多功用结合的真空电镀,其中阅历了较长时刻。      真空电镀设备的真空室能用不锈钢或许碳钢组合运用制造,真空电镀设备做成单开门或许又开门。      真空电镀设备能经过运用电阻加热,若电阻要加热,真空电镀设备所运用的资料包括石墨、钨、钽、钼、镍铬等,真空电镀设备加热后要进行保温,真空电镀设备设置了保温层就可以提高加热的功率,以免真空电镀设备的热量快速散失,一般
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[永城资讯]真空镀膜-真空镀膜设备镀铝工艺常见问题[ 2018-05-05 14:16 ]
 真空镀膜-真空镀膜设备镀铝工艺常见问题    1、镀铝时薄膜呈现孔洞   原因:   ①蒸发舟内铝料太满。解决方法:下降送铝速度;前进蒸发舟电流。   ②真空室内蒸发舟之间呈现短路。解决方法:打扫短路。   ③真空室内杂质飞溅   2、镀铝时薄膜呈现拉伸现象   原因:   ①基材张力太大。解决方法:调节放卷、卷取张力操控系统,恰当减少张力。   ②冷却系统作业反常。解决方法:查看冷却系统,并打扫毛病。   3、薄膜外表呈现褐色条纹   原因:   ①真空度低 解决方
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[永城资讯]真空镀膜-镀膜设备自动化的说明[ 2018-05-03 14:08 ]
 真空镀膜-镀膜设备自动化的说明 1.具有操作简便、性能稳定、抗干扰能力强的特点。操作系统具有灵活的可视化操作接口,并针对设备运行的具体情况,分为手动界面、维修界面、历史记录界面、自动界面。 2.     根据权限不同,限制相应的操作限制,最大限度的保证设备的正常运转和安全操作,以及工艺的稳定性和连续性。 3.     整个系统的操作、控制、显示集中在一起,便于实时的观察设备的运行,及时掌握设备的动态情况。 4.     镀膜过程的参数有
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[永城资讯]真空镀膜-五金工具真空镀膜的优点[ 2018-04-28 14:53 ]
 真空镀膜-五金工具真空镀膜的优点 五金工具真空镀膜能发生很硬的陶瓷涂层,这有利于进步耐磨性;涂层均匀共同,且孔隙度小,涂层结合强度高(大于70MPa);涂层外表粗糙度小,可不需加工。   薄膜类型  色泽  硬度(Hv)  厚度(μm)  冲突系数(钢对磨)  耐热温度(℃) TiN  金黄  2200±200  1~4  0.5~0.7  550±50
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[永城资讯]真空镀膜-基础的真空镀膜知识[ 2018-04-26 14:30 ]
 真空镀膜-基础的真空镀膜知识  真空镀膜是由专用真空镀膜机完成的,其工作流程及原理为:基片通过镀膜机的机械手的搬运,进入到镀膜机的真空腔体里,经过高压电离的氩离子在强电场及强磁场的作用下,产生高速运动,轰击靶材表面,激发出的金属离子附着在基片表面,形成一层反射膜。 基础的真空镀膜知识: 1.真空:用真空泵抽掉容器中的气体,使空间内低于一个大气压的气体状态,也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。 2.真空中残存气体的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用压力表示单位(P
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[永城资讯]真空镀膜中关于靶材中毒的原因[ 2018-04-24 13:59 ]
 第一:靶面金属化合物的形成。 由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子,通常是放热反应,反应生成热必须有传导出去的途径,否则,该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导,所以,化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。   第二:靶中毒的影响因素   影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶中毒
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[镀膜动态]基础的真空镀膜知识[ 2018-04-21 14:05 ]
 基础的真空镀膜知识  真空镀膜是由专用真空镀膜机完成的,其工作流程及原理为:基片通过镀膜机的机械手的搬运,进入到镀膜机的真空腔体里,经过高压电离的氩离子在强电场及强磁场的作用下,产生高速运动,轰击靶材表面,激发出的金属离子附着在基片表面,形成一层反射膜。 基础的真空镀膜知识: 1.真空:用真空泵抽掉容器中的气体,使空间内低于一个大气压的气体状态,也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。 2.真空中残存气体的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用压力表示单位(Pa) 3
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