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镀膜技术的原理介绍

文章出处:网责任编辑:作者:人气:-发表时间:2021-01-11 11:51:00

  1、真空镀膜技术是一项新兴的技术,国际上直到60年代才开始将CVD(化学气相镀膜)技术应用到硬质合金工具中。因为这种方法需要在高温(工艺温度高于1000ºC)下进行,且涂层类型单一,局限性很大,所以在开发初期还有待改进。

  2、离子镀膜的基本原理:在真空条件下,采用一定的等离子体离子化技术,使镀层原子部分离子化,同时产生大量高能中性原子,并在镀层表面施加负偏压。因此,在深度负偏压作用下,离子沉积在基体表面形成薄膜。

  3、PVD是一种物理气相沉积法,它分为:真空蒸发法、真空溅射法和真空离子法。PVD镀膜通常指的是真空离子镀膜;NCVM镀膜通常指的是真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜。

  4、真空镀的基本原理:在真空条件下,金属、金属合金等被蒸发蒸发,然后沉积到基体表面,蒸发法通常采用电阻加热,电子束轰击镀料,使其蒸发成气相,然后沉积到基体表面,PVD法历史上最早采用真空蒸镀技术。

  5、溅射镀膜的基本原理:充氩(Ar)气的真空环境中,当氩(Ar)原子被电离,形成氩离子(Ar)时,氩离子在电场力的作用下,加速轰击用镀料制成的阴极靶,靶将溅射出来并沉积在工件表面。溅射膜中的入射离子,一般是通过辉光放电获得的,在l0-2Pa~10Pa范围内,因此溅射出的粒子在飞向基体时,容易与空气中的气体分子发生碰撞,使其运动方向随机,沉积的薄膜容易均匀。

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