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- [永城资讯]PVD真空镀膜原理介绍[ 2021-01-20 09:20 ]
- PVD即物理气相沉积，是目前国际上广泛采用的一种先进的表面处理方法。它的工作原理是在真空条件下，用气体放电将气体或被蒸发物质部分离化，将蒸发物或其反应物沉积到基体上，同时使气体离子或被蒸发物质离子轰击。其特点是沉积速度快，表面干净，尤其是膜层附着力强，缠绕力强，可镀材料范围广。利用世界上先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，并以国际专家为基础进行工艺创新。公司拥有十多年的装饰镀层生产经验，为客户提供最合适的镀层加工方案。 一、PVD真空镀膜属性是怎样的？ 1、金属色均匀、一致、耐用的表
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