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[永城资讯]PVD真空镀膜原理介绍[ 2021-01-20 09:20 ]
  PVD即物理气相沉积,是目前国际上广泛采用的一种先进的表面处理方法。它的工作原理是在真空条件下,用气体放电将气体或被蒸发物质部分离化,将蒸发物或其反应物沉积到基体上,同时使气体离子或被蒸发物质离子轰击。其特点是沉积速度快,表面干净,尤其是膜层附着力强,缠绕力强,可镀材料范围广。利用世界上先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备,并以国际专家为基础进行工艺创新。公司拥有十多年的装饰镀层生产经验,为客户提供最合适的镀层加工方案。 一、PVD真空镀膜属性是怎样的?   1、金属色均匀、一致、耐用的表
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[永城资讯]离子镀膜中的离子源介绍[ 2021-01-11 11:08 ]
虽然离子源的类型有很多种,但目的无非是在线清洗,改善PVD真空镀膜表面的能量分布,调制增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体的结合强度,同时也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。如果是电镀工具的耐磨层,厚度一般较大,膜厚均匀性不高。可以使用离子电流较大、能级较高的离子源,如霍尔离子源或阳极层离子源。
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[永城资讯]PVD镀膜工艺介绍[ 2021-01-11 10:51 ]
   PVD-物理气体沉积:利用物理过程实现物质转移,将原子或分子从源头转移到基材表面的过程。其作用是能够将一些具有特殊性能(强度高、耐磨、散热、耐腐蚀等)的微粒子喷涂在性能低的母体上,使母体具有更好的性能。这使得一些简单易用的材料在PVD工艺处理后具有难以改性材料的性能,从而在一定程度上满足了人们对美观、质感、耐候性等的需求。   PVD镀膜技术是一种环保的表面处理方法,可以真正获得微米级电镀,无污染,可以制作各种单一的金属膜(铝、钛、锆、铬等)、氮化膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiA
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[永城资讯]离子镀膜的均匀性要求[ 2018-04-03 16:53 ]
 pvd 真空镀膜,离子镀膜膜层的均与性主要包括成分均匀、组织结构均匀和膜厚均匀,最终保证膜层各种性能均匀。材料的性能由其诚分与组织结构所决定,膜层必须获得所设计的膜系成分和组织结构均匀一致。薄膜是二维材料,膜的厚度是重要的材料技术指标。比如薄膜的干涉显色,耐腐蚀性和耐磨性都与膜厚密切相关,膜厚均匀保证薄膜相关的性能均匀。     离子镀膜膜层的成分来源于镀料,或者说来源于蒸发源和溅射靶的材料以及反应气体。这些沉积物的物种及其比例,在沉积过程要稳定供给。   &
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[永城资讯]PVD真空镀膜技术在注塑模具中的应用[ 2018-01-23 11:29 ]
 PVD(Physical Vapor Deposition)即物理气相沉积,是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基底上。   它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等特点。   PVD技术出现于二十世纪七十年代末,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的
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[永城资讯]做PVD真空镀膜的您必备这些知识[ 2018-01-18 16:13 ]
PVD技术出现于,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视,人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比,PVD工艺处理温度低,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、
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[永城资讯]PVD真空镀膜机原理和各部件分析[ 2017-09-19 20:04 ]
 一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异,真空腔的大小也不一样,目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔体由不锈钢" target=_blank>不锈钢材料制作,要求不生锈、坚实等,真空腔各部分有连接阀,用来连接各抽气泵浦。      二、辅助抽气系统:排气系统为镀膜机真空系统的重要部分,主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三大部分组成。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱
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[永城资讯]PVD真空镀膜过程的均匀性[ 2017-09-09 15:39 ]
 PVD真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。     薄膜均匀性的概念:     1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜
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[永城资讯]pvd镀膜技术[ 2017-09-07 17:46 ]
  一、技术概述       新型表面功能覆层技术,包括低温化学表面涂层技术及超深层表面改性技术,它运用物理、化学或物理化学等技术手段来改变“材料及其制件表面成份和组织结构”,其特点是保持基体材料固有的特征,又赋予表面化所要求的各种性能,从而适应各种技术和服役环境对材料的特殊要求,因而它是制造和材料学科最为活跃的技术领域,又是涉及表面处理与涂层技术的交叉学科。其最大的优势在于能以极少的材料和能源消耗制备出基体材料难以甚至无法获得的性能优异
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[永城资讯]真空镀膜设备如何操作[ 2017-08-18 17:15 ]
    真空镀膜设备操作程序具体操作时请参照该设备说明书和真空镀膜机上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。  ① 检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。  ② 打开总电源开关,真空镀膜设备送电。  ③ 低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。  ④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保证无任何杂质污物。  ⑤
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[常见问答]PVD真空镀膜工艺的原理及应用[ 2017-08-16 18:16 ]
 PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比,真空镀膜有很多优点:如对环境无污 染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术),这些方法统称物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),
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[永城资讯]真空电镀加工[ 2017-07-08 11:27 ]
 Q1:请问什么是PVD?真空电镀加工真空镀膜技术 A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术 Q2:请问什么是PVD镀膜?什么是PVD镀膜机? A2:PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。 近十多年来,真空离
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[永城资讯]真空镀膜机-真空镀膜机操作程序[ 2017-07-06 11:51 ]
 真空镀膜机-真空镀膜机操作程序   真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书   和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。   ① 检查真空镀膜机各操作控制开关是否在"关"位置。   ② 打开总电源开关,设备送电。   ③ 低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。   ④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保
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[永城资讯]真空离子镀钛的原理及应用[ 2013-07-24 10:35 ]
PVD(物理气相沉积)技术在二十世纪七十年代末,开始应用在提高机械力学性能的硬质膜方面,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国工具制造业的高度重视
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[永城资讯]钢带镀膜技术[ 2013-07-23 15:51 ]
钢铁生产者现在面临着终端用户在关于显著增强钢板的腐蚀保护和增加钢板的复杂的表面功能性质方面日益增加的需求。自从这种趋势变得越来越明显的时候,仅仅使用可应用的传统连续钢带镀膜工艺(比如热浸镀或者电镀锌)就不能满足这些需求了,这时就考虑可选择的镀膜工艺,比如PVD
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[镀膜动态]昂贵腕表如何长久保持光泽[ 2013-07-23 15:39 ]
离子镀着,也是俗称的“IP电镀”,则是PVD真空镀膜中密着性最高、硬度最高、持久性也最好的技术。它融合了真空蒸着与溅射法的工法,先以溅射法来彻底的洗净被镀件的表面,然后再混合加热金属的真空蒸着法与溅射法来为被镀件镀膜,即是所谓的离子镀着。
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