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[永城资讯]镀膜工艺原理介绍[ 2021-04-27 15:50 ]
PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比,真空镀膜有很多优点:如对环境无污 染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术),这些方法统称物理气相沉积(Physical Vapor Deposition), 简称为PVD
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[永城资讯]PVD镀膜工艺介绍[ 2021-04-27 15:37 ]
1、表面处理:通常,镀膜之前,应对基材(镀件)进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,如PE(聚乙烯)料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。   2、底涂:底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。采用喷涂方法,可采用SZ-97T镀膜油;采用浸涂方法,可采用SZ-97、SZ-97+1等油,具体应视镀件材料而定。
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[永城资讯]东莞PVD真空镀膜介绍[ 2021-04-27 15:34 ]
PVD是:Physical Vapor Deposition英文的缩写,中文意思是:物理气相沉积。主要意思是指在真空条件下,在真空状态下注入氩气,氩气桩基靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
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[永城资讯]真空PVD镀膜涂层工艺基本步骤[ 2021-04-27 15:19 ]
真空PVD镀膜涂层工艺基本步骤   真空PVD镀膜   前处理工艺   褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹
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[永城资讯]长安真空镀膜公司:PVD和CVD区别介绍[ 2021-04-27 09:54 ]
  PVD:   用物理方法(如蒸发、溅射等),使镀膜材料汽化在基体表面,沉积成覆盖层的方法。   CVD:   用化学方法使气体在基体材料表面发生化学反应并形成覆盖层的方法。   区别:   化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。   与之相对的是物理气相沉积(Physical Vapor Deposi
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[永城资讯]真空PVD镀膜加工过程中清洁工作的重要性[ 2021-04-19 15:59 ]
在真空PVD镀膜加工表面上进行清洗处理十分重要,它直接影响产品的质量。加工零件进入镀膜车间前,必须对其进行认真的镀前清洁处理,表面污染来自工件在加工、输送、包装过程中粘附的各种尘埃、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物质,为避免加工过程中出现不良现象,真空镀加工厂家基本上可以采用去油或化学清洗的方法去除。
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[永城资讯]PVD镀膜工艺的注意事项[ 2021-04-19 15:53 ]
  一、真空PVD膜镀层虽然有一定的抗腐蚀性能,但与酸碱等强腐蚀性物质接触,很难抵抗腐蚀。所以,在日常的维修保养中,尽量不选用强酸强碱或去污能力强的清洗剂,如洁厕精、脱漆剂、金属清洗剂等,可选用工业酒精软棉布轻擦,如果表面有污垢,也可选用弱酸弱碱溶剂进行处理。另外,如果长期暴露在恶劣环境中,或长期接触到腐蚀性液体,PVD工艺的膜层也容易出现诸如游泳池(含氟)、海水(含盐分)、高温高湿(蒸汽)等问题。   二、使用防指纹光油。愈来愈多的客户选择用彩色PVD薄膜镀层的不锈钢产品,再喷上一层透明的防指纹清油,
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[永城资讯]PVD镀膜技术的应用领域有哪些?[ 2021-04-19 15:34 ]
  1.在装饰品方面   随着经济的发展和生活水平的提高,人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。   2.在刀具、模具等金属切削加工工具方面   在生活中,我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等,这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。   (1)金黄色的,是在刀具上涂镀了TiN、ZrN涂层,TiN是第一代应用广泛的硬质层材料。   (2)黑色的,是在切削工具上涂了TiC、CrN涂
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[永城资讯]东莞PVD镀膜工艺介绍[ 2021-03-11 11:01 ]
伴随着PVD镀膜工艺在我国各个行业的迅速发展,越来越多的行业厂家都会采用PVD镀膜工艺,那么大家对PVD镀膜工艺的要求有什么了解吗?不要紧,下面东莞PVD镀膜厂家就给大家介绍一下,一起来看看吧。
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[永城资讯]PVD真空镀膜原理介绍[ 2021-01-20 09:20 ]
  PVD即物理气相沉积,是目前国际上广泛采用的一种先进的表面处理方法。它的工作原理是在真空条件下,用气体放电将气体或被蒸发物质部分离化,将蒸发物或其反应物沉积到基体上,同时使气体离子或被蒸发物质离子轰击。其特点是沉积速度快,表面干净,尤其是膜层附着力强,缠绕力强,可镀材料范围广。利用世界上先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备,并以国际专家为基础进行工艺创新。公司拥有十多年的装饰镀层生产经验,为客户提供最合适的镀层加工方案。 一、PVD真空镀膜属性是怎样的?   1、金属色均匀、一致、耐用的表
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[永城资讯]离子镀膜中的离子源介绍[ 2021-01-11 11:08 ]
虽然离子源的类型有很多种,但目的无非是在线清洗,改善PVD真空镀膜表面的能量分布,调制增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体的结合强度,同时也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。如果是电镀工具的耐磨层,厚度一般较大,膜厚均匀性不高。可以使用离子电流较大、能级较高的离子源,如霍尔离子源或阳极层离子源。
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[永城资讯]PVD镀膜工艺介绍[ 2021-01-11 10:51 ]
   PVD-物理气体沉积:利用物理过程实现物质转移,将原子或分子从源头转移到基材表面的过程。其作用是能够将一些具有特殊性能(强度高、耐磨、散热、耐腐蚀等)的微粒子喷涂在性能低的母体上,使母体具有更好的性能。这使得一些简单易用的材料在PVD工艺处理后具有难以改性材料的性能,从而在一定程度上满足了人们对美观、质感、耐候性等的需求。   PVD镀膜技术是一种环保的表面处理方法,可以真正获得微米级电镀,无污染,可以制作各种单一的金属膜(铝、钛、锆、铬等)、氮化膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiA
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[永城资讯]离子镀膜的均匀性要求[ 2018-04-03 16:53 ]
 pvd 真空镀膜,离子镀膜膜层的均与性主要包括成分均匀、组织结构均匀和膜厚均匀,最终保证膜层各种性能均匀。材料的性能由其诚分与组织结构所决定,膜层必须获得所设计的膜系成分和组织结构均匀一致。薄膜是二维材料,膜的厚度是重要的材料技术指标。比如薄膜的干涉显色,耐腐蚀性和耐磨性都与膜厚密切相关,膜厚均匀保证薄膜相关的性能均匀。     离子镀膜膜层的成分来源于镀料,或者说来源于蒸发源和溅射靶的材料以及反应气体。这些沉积物的物种及其比例,在沉积过程要稳定供给。   &
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[永城资讯]PVD真空镀膜技术在注塑模具中的应用[ 2018-01-23 11:29 ]
 PVD(Physical Vapor Deposition)即物理气相沉积,是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基底上。   它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等特点。   PVD技术出现于二十世纪七十年代末,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的
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[永城资讯]做PVD真空镀膜的您必备这些知识[ 2018-01-18 16:13 ]
PVD技术出现于,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视,人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比,PVD工艺处理温度低,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、
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[永城资讯]PVD真空镀膜机原理和各部件分析[ 2017-09-19 20:04 ]
 一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异,真空腔的大小也不一样,目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔体由不锈钢" target=_blank>不锈钢材料制作,要求不生锈、坚实等,真空腔各部分有连接阀,用来连接各抽气泵浦。      二、辅助抽气系统:排气系统为镀膜机真空系统的重要部分,主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三大部分组成。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱
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[永城资讯]PVD真空镀膜过程的均匀性[ 2017-09-09 15:39 ]
 PVD真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。     薄膜均匀性的概念:     1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜
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[永城资讯]pvd镀膜技术[ 2017-09-07 17:46 ]
  一、技术概述       新型表面功能覆层技术,包括低温化学表面涂层技术及超深层表面改性技术,它运用物理、化学或物理化学等技术手段来改变“材料及其制件表面成份和组织结构”,其特点是保持基体材料固有的特征,又赋予表面化所要求的各种性能,从而适应各种技术和服役环境对材料的特殊要求,因而它是制造和材料学科最为活跃的技术领域,又是涉及表面处理与涂层技术的交叉学科。其最大的优势在于能以极少的材料和能源消耗制备出基体材料难以甚至无法获得的性能优异
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[永城资讯]真空镀膜设备如何操作[ 2017-08-18 17:15 ]
    真空镀膜设备操作程序具体操作时请参照该设备说明书和真空镀膜机上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。  ① 检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。  ② 打开总电源开关,真空镀膜设备送电。  ③ 低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。  ④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保证无任何杂质污物。  ⑤
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[常见问答]PVD真空镀膜工艺的原理及应用[ 2017-08-16 18:16 ]
 PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比,真空镀膜有很多优点:如对环境无污 染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术),这些方法统称物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),
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