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[永城资讯]PVD真空镀膜原理介绍[ 2021-01-20 09:20 ]: PVD即物理气相沉积，是目前国际上广泛采用的一种先进的表面处理方法。它的工作原理是在真空条件下，用气体放电将气体或被蒸发物质部分离化，将蒸发物或其反应物沉积到基体上，同时使气体离子或被蒸发物质离子轰击。其特点是沉积速度快，表面干净，尤其是膜层附着力强，缠绕力强，可镀材料范围广。利用世界上先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，并以国际专家为基础进行工艺创新。公司拥有十多年的装饰镀层生产经验，为客户提供最合适的镀层加工方案。一、PVD真空镀膜属性是怎样的？　　1、金属色均匀、一致、耐用的表; http://www.yczkdm.com/Article/PVDzhenkongdumoyuanl_1.html

[永城资讯]离子镀膜中的离子源介绍[ 2021-01-11 11:08 ]: 虽然离子源的类型有很多种，但目的无非是在线清洗，改善PVD真空镀膜表面的能量分布，调制增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体的结合强度，同时也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。如果是电镀工具的耐磨层，厚度一般较大，膜厚均匀性不高。可以使用离子电流较大、能级较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。; http://www.yczkdm.com/Article/lizidumozhongdeliziy_1.html

[永城资讯]离子镀膜的均匀性要求[ 2018-04-03 16:53 ]: pvd 真空镀膜，离子镀膜膜层的均与性主要包括成分均匀、组织结构均匀和膜厚均匀，最终保证膜层各种性能均匀。材料的性能由其诚分与组织结构所决定，膜层必须获得所设计的膜系成分和组织结构均匀一致。薄膜是二维材料，膜的厚度是重要的材料技术指标。比如薄膜的干涉显色，耐腐蚀性和耐磨性都与膜厚密切相关，膜厚均匀保证薄膜相关的性能均匀。离子镀膜膜层的成分来源于镀料，或者说来源于蒸发源和溅射靶的材料以及反应气体。这些沉积物的物种及其比例，在沉积过程要稳定供给。 &; http://www.yczkdm.com/Article/helps-08391656581_1.html

[永城资讯]真空镀膜设备镀玻璃会掉膜的原因[ 2017-11-23 18:08 ]: 真空蒸发镀膜设备的零部件的表面清洗处理是很有必要的，因为要是受到外界环境的影响会使真空系统无法正常使用达不到高真空度。　　而且存在杂质的情况下，真空部件的链接和密闭性都有受到影响。　　污染物杂质对真空完全是一种无用的物质，多弧离子镀膜机会根据杂质的状态将其分为固态杂质、气态杂质以及液体杂质，它们微粒的形式存在。从化学的角度看，既可以是离子的也可以是共价的，既是有机的也可以是无机的。　　显露的外面的表层最容易被污染到，被污染的情况有很多种，一开始一般是由本身运转形成的。　　要注意表层吸附、; http://www.yczkdm.com/Article/helps-53921808361_1.html

[永城资讯]真空电镀加工[ 2017-07-08 11:27 ]: Q1:请问什么是PVD？真空电镀加工真空镀膜技术 A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术 Q2:请问什么是PVD镀膜？什么是PVD镀膜机？ A2:PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年来，真空离; http://www.yczkdm.com/Article/zhenkongdiandujiagon_1.html

[设备展示]磁控离子镀膜设备[ 2013-07-23 15:02 ]: http://www.yczkdm.com/Article/cikonglizidumoshebei_1.html

[设备展示]多弧离子镀膜设备[ 2013-07-23 15:00 ]: http://www.yczkdm.com/Article/duohulizidumoshebei_1.html

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