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- [永城资讯]长安真空镀膜公司：PVD和CVD区别介绍[ 2021-04-27 09:54 ]
- PVD： 用物理方法(如蒸发、溅射等)，使镀膜材料汽化在基体表面，沉积成覆盖层的方法。 CVD： 用化学方法使气体在基体材料表面发生化学反应并形成覆盖层的方法。 区别： 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。 与之相对的是物理气相沉积(Physical Vapor Deposi
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